(1)拋光機用研磨盤的研磨修整
1)研磨盤的對研采用三塊或兩塊平板互研原理,在研磨機上進行。研磨時,在上盤涂以適量的研磨劑,上盤浮壓而下盤轉動,在摩擦力作用下,上下盤作同向轉動,同時推動上盤懸臂繞立柱擺動,擺幅根據兩盤凹凸情況決定。
2)用校正環研磨修整研磨盤見圖。當研磨盤呈凸形時,校正環向中心移動,反之向外移動;如果呈波紋形,則一環向中心,一環向外側移動,另一環保持原位。校正環的移動量一般不超過5mm。也有采用外圓帶齒的校正環,依靠裝卸中心齒輪,使校正環得到正轉或反轉來修整研磨盤。
(2)平板研磨及其質量鑒別
1)粗研主要去除機械加工痕跡,提高吻合性與平面度。選用磨料為180°-W28粒度的剛玉,以煤油為輔料。開始時選用90或180轉動次數多些,速度低些。待研磨劑均勻后,再作正常的圓周運動,但平板移動距離不得超過平板邊長的1/3。
2)半精研選用W20~W7的白剛玉,適當加入一些氧化鉻研磨膏或硬脂酸。待三塊平板完全吻合,平面度達到要求,粗研的痕跡完全去除為止。
3)精研研磨劑視需要而定。研磨前對平板和工作環境加以清理,研磨時速度不宜過高,移動距離不宜過大,平板換位次數適當增加。研磨質量的鑒別
①工作面吻合性***,色澤一致;
②工作面無粗研痕跡、碰傷等缺陷。
