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　　離子束加工裝置與電子束裝置基本類似,是由離子源、真空系統、控制系統、電源等部分組成。

　　離子源又稱離子槍、其作用是產生離子束。其原理是將情性氣體充人真空室中,利用高頻放電、高速電子撞擊、電弧放電等方法,使情性氣體被電離為等離子體,并在強電場作用下將正離子從離子源出口孔引出成束所謂等離子體是由數量相等的正離子與負電子所組成的混合體,呈中性,在物理學上稱之為除固、液、氣三態外的物質第四態

　　離子源有多種類型以適應不同的用途,離子產生的方式也各有不同,有通過放電、高速電子撞擊、高溫強光、放射線照射等方法將中性原子電離。常用的離子源主要有雙等離子體型、離子震射(流)型和高頻等離子體型等。

　　(1)雙等離子體型離子源它是利用陰極和陽極間4陰極5-陽概()6-陽的直流電弧放電,使氬、氪、氙等惰性氣體在陽極小孔以上的低真空中離子化。

　　(2)離子簇射(流)型離子源

　　(3)金屬拋光加工拋光機高頻等離子體離子源　簡稱高頻離子源,它是利用高頻振蕩器在放電室中產生高頻電磁場,以加速自由電子與惰性氣體原子進行碰撞,使之電離而產生等離子體。其特點是可以獲得金屬離子、化學性質活潑的氣體離子,與其他離子源相比,其束流強度較低。