化學(xué)拋光是一種特殊條件下的化學(xué)腐蝕，它是通過控制金屬表面選擇性的溶解而使金屬表面達(dá)到整平和光亮的金屬加工過程。所謂選擇性的溶解，是指被拋光面的金相學(xué)的、結(jié)晶學(xué)的以及幾何學(xué)的不均勻性受到不均勻的溶解，凸出部溶解多，而凹谷處溶解很少之意，結(jié)果表面就由凹凸不平而變得平整光亮。
化學(xué)拋光不只限于能獲得光亮的金屬表面，它還對(duì)金屬的許多物理原化學(xué)性質(zhì)及腐蝕性質(zhì)有良***的影響。眾所周知，化學(xué)拋光能改善金屬的光學(xué)性質(zhì)(反光系數(shù)或光反射率)和機(jī)械性能，減小金屬之間的摩擦系數(shù)，提高金屬在冷作狀態(tài)下的塑性變形能力，增大某些磁性材料的導(dǎo)磁系數(shù)，消除冷發(fā)射現(xiàn)象等。
化學(xué)拋光不僅在各種科學(xué)和技術(shù)領(lǐng)域里取得了越來越廣泛的應(yīng)用，而且在工業(yè)上也愈來愈受到重視和應(yīng)用。如不銹鋼、黃銅、鋁及其他金屬制品的裝飾性精加工；機(jī)械零件和工具表面的***后精加工；鋁及鋁合金制品陽極氧化、化學(xué)氧化和著色前的表面準(zhǔn)備；電鍍和化學(xué)鍍前的金屬表面準(zhǔn)備；多層電鍍時(shí)中間鍍層的拋光和***后鍍層的精加工；作為制造板材、帶材、線材及制成品的中間工序的拋光等。過去金銀***飾大都用手工壓光，勞動(dòng)效率極低，近年來已開始轉(zhuǎn)向用化學(xué)拋光或電化學(xué)拋光作為***飾品的中間或***終加工工序。由于基體金屬大都為價(jià)格低廉的金屬材料，用拋光的方法除去基體表面的不平整比用昂貴的金屬鍍層來填平合算得多，這就為拋光技術(shù)的應(yīng)用敞開了大門，其應(yīng)用領(lǐng)域?qū)㈦S著時(shí)間的推移而越來越廣。
化學(xué)拋光同機(jī)械拋光相比，是一種更為先進(jìn)、更為科學(xué)的拋光方法，其特點(diǎn)為：
可用于機(jī)械拋光甚感困難或無法加工的制件。如形狀、結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜，具有不規(guī)則凹、凸結(jié)構(gòu)的制件，狹小縫隙或孔洞的內(nèi)表面，精細(xì)薄小的制件等。
一般為簡(jiǎn)單的手工操作，操作方法簡(jiǎn)單，容易掌握。
拋光后的制件，表面粗糙度非常均勻一致，其均勻性超過機(jī)械拋光和電拋光。
作業(yè)時(shí)勞動(dòng)強(qiáng)度小，無噪聲和粉塵污染，但存在一定的化學(xué)污染。
被拋光表面的光亮度，可通過選用不同的工藝規(guī)范來控制。
對(duì)某些光亮度要求很高的制件，僅用化學(xué)拋光不容易達(dá)到要求，通常化學(xué)拋光的光亮度不及機(jī)械拋光，有時(shí)化學(xué)拋光后還需機(jī)械拋光。
化學(xué)拋光前，必須對(duì)拋光制件進(jìn)行徹底清洗，包括除油污和除銹蝕。
工藝的專用性較強(qiáng)。
